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Integriertes Verfahren zur Funktionalisierung der Oberfläche von gasgetragenen Partikeln durch MOCVS/MOCVD und dessen Anwendung auf die Herstellung von Pd/SiO2-Katalysatoren

Integriertes Verfahren zur Funktionalisierung der Oberfläche von gasgetragenen Partikeln durch MOCVS/MOCVD und dessen Anwendung auf die Herstellung von Pd/SiO2-Katalysatoren

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Das Ziel dieser Arbeit war die Entwicklung eines kontinuierlichen MOCVS/MOCVD-Verfahrens zur Generierung und Funktionalisierung von gasgetragenen, nanoskaligen Partikeln bei atmosphärischen Bedingungen und dessen Anwendung auf die Herstellung von Siliziumdioxid geträgerten Palladiumkatalysatoren (Pd/SiO2).

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DOI: 10.5445/KSP/1000005523

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